来源：ayx爱游戏官网 发布时间：2024-11-04 05:46:04
CINNO Research工业资讯，Blank mask出产企业S&S Tech成功开宣布了穿透率达90%的半导体EUV制程用防护膜(pellicle)，这是韩国初次。现在，只要荷兰ASML公司成功开宣布了穿透率为90%的EUV pellicle。假如完结质量测验后正式量产，估计将对S&S Tech的出售扩展做出巨大贡献。
pellicle是在半导体曝光制程中维护photo mask免受污染的超薄膜形状的耗费性资料。最近，跟着想要在存储半导体超细工艺中引入EUV设备的企业添加， EUV专用pellicle的需求也呈添加趋势。
与现有的ArF曝光设备不一样，EUV设备的结构是光反射到镜子后，再到晶片，因而光源丢失很大。要想使光源丢失降到最低，一定要运用穿透率超越90%的EUV用pellicle。尽管也能够再一次进行挑选不运用pellicle，但EUV光罩是价值数亿韩元的高价配件，因而若要削减尘埃对光罩的损害，就一定要运用pellicle。
据悉，S&S Tech此次开发的全尺度EUV pellicle的穿透率为89~90%。保存计算，穿透率至少到达85%。耐久性根据测验条件不一样，但约为1万至2万小时。
这是韩国初次开宣布穿透率超越90%的EUV pellicle。在韩国企业中，S&S Tech和FST两家企业一直在开发EUV pellicle。FST现在也致力于开发穿透率到达90%的EUV pellicle。在海外，ASML和TER携手协作，于上一年上半年开宣布了穿透率为82~83%的MK3.0，本年上半年又成功开宣布了穿透率为90.6%的MK4.0。MK4.0的出产由日本三井化学担任，将向三星电子供给。
S&S Tech现在正在与ASML进行质量测验相关协议。假如经过独占全球EUV设备的ASML测验，就等于取得“质量认证”。量产也将随之进行。假如测验顺利完结，估计将在京畿道龙仁引入出产设备，并开端量产。
假如具有量产设备，公司的出售也将会飞速添加。由于只要极少数企业进入了EUV pellicle商场，并且海内外Foundry企业正在全面引入EUV制程。三星电子方案从2023年底开端向EUV制程很多投入pellicle，SK海力士、美光等也在加速引入EUV制程的脚步。
