来源：ayx爱游戏官网 发布时间：2025-01-23 07:18:00
金融界2025年1月21日音讯，国家知识产权局信息数据显现，福建泓光半导体资料有限公司请求一项名为“种有机硅聚合物和含硅底部抗反射涂层组合物及其制备办法与使用”的专利，公开号CN 119264435 A，请求日期为2024年11月。
专利摘要显现，本发明归于光刻资料技术领域，详细触及一种有机硅聚合物和含硅底部抗反射涂层组合物及其制备办法与使用。所述有机硅聚合物包含衍生自式(1)所示单体A1的结构单元一、衍生自式(2)所示单体A2的结构单元二以及任选的衍生自式(3)所示硅氧烷单体A3的结构单元三。本发明的重点是规划组成具有特定结构的含氰基的有机硅聚合物，并将其作为底部抗反射涂层组合物的质料以构成抗反射膜，因为氰基的引进降低了该抗反射膜的亲水性，提高了其与光刻胶外表的粘附性，一起该抗反射薄膜膜厚安稳且还具有十分杰出的抗反射功能以及较高的刻蚀速率，显影后的光刻胶图画不易坍毁、成型作用好，在半导体器材加工中使用远景杰出。
天眼查资料显现，福建泓光半导体资料有限公司，成立于2019年，坐落漳州市，是一家以从事计算机、通讯和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册本钱25000万人民币，实缴本钱22150万人民币。经过天眼查大数据分析，福建泓光半导体资料有限公司参加招投标项目23次，知识产权方面有商标信息10条，专利信息37条，此外企业还具有行政许可31个。
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