来源：ayx爱游戏官网 发布时间：2025-01-23 07:18:48
金融界2025年1月21日音讯，国家知识产权局信息数据显现，长鑫存储技能有限公司请求一项名为“抗反射膜层结构及其构成办法”的专利，揭露号CN 119270577 A，请求日期为2023年6月。
专利摘要显现，本揭露是关于半导体技能领域，触及一种抗反射膜层结构及其构成办法，该反射膜层结构包含堆叠散布的榜首硬掩膜层和第二硬掩膜层；其间，所述榜首硬掩膜层和所述第二硬掩膜层的折射率和/或消光系数不同；所述榜首硬掩膜层和所述第二硬掩膜层的厚度之比为1:10～10:1。该构成办法可进步显影区的概括的均匀性。
天眼查资料显现，长鑫存储技能有限公司，成立于2017年，坐落合肥市，是一家以从事计算机、通讯和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册本钱2388760.15663万人民币，实缴本钱2388760.15663万人民币。经过天眼查大数据分析，长鑫存储技能有限公司参加招投标项目377次，知识产权方面有商标信息2条，专利信息5000条，此外企业还具有行政许可44个。
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